ASML tiếp tục chọn laser-produced plasma 1,000W, ít khả năng dùng free-electron laser do Elon Musk ủng hộ

Tóm tắt nhanh

• ASML vẫn dùng công nghệ laser-produced plasma (LPP) cho nguồn sáng EUV và dự kiến tăng công suất nguồn từ ~500W lên 1,000W trong vài năm tới.
• ASML sẽ tăng tần suất tạo giọt thiếc lên gần 100,000 giọt mỗi giây để nâng công suất LPP.
• FEL (free-electron laser) do accelerator tạo ra ánh sáng EUV được Elon Musk ủng hộ và có thể loại bỏ giọt thiếc cùng rác thiếc, theo các nhà ủng hộ.
• FEL có ưu thế tiềm năng về công suất cao hơn và thay thế nhiều nguồn LPP bằng một FEL với hệ phân phối chùm EUV lớn.
• JPMorgan/Semi Doped báo cáo ASML không thấy lý do thử nghiệm FEL do tiến bộ laser và lợi ích LPP hiện tại.
• FEL yêu cầu máy gia tốc phức tạp, nguồn electron, undulator dài, điều khiển chùm electron, che chắn bức xạ và hệ phân phối gương chịu được EUV mạnh.
• Việc đạt được mức sẵn sàng, hiệu suất và chi phí phù hợp cho sản xuất chip có thể mất một thập kỷ hoặc lâu hơn, theo các phân tích.
• Phát triển FEL sẽ tốn hàng tỷ đô la và không phải tổ chức theo đuổi FEL nào cũng có thể duy trì đến khi công nghệ trưởng thành.

Tóm tắt tự động bằng AI từ bài gốc, có thể có sai sót. Hãy kiểm chứng ở bài gốc.