TSMC to start using High-NA EUV lithography in 2030 — A10 or A11 technology prime candidates for use
Trích đoạn bài gốc
TSMC discloses plans to use High-NA EUV lithography in 2030, 6×12-inch photomasks with new scanners in 2033.tapview chỉ hiển thị tiêu đề, trích đoạn ngắn, tóm tắt và đường dẫn tới bài gốc. Nội dung gốc thuộc bản quyền của Tom's Hardware.
