Startup Trung Quốc Langdao Silex trình diễn nguyên mẫu nguồn sáng EUV công suất >15W

Tóm tắt nhanh

• Langdao Silex, startup thành lập 2024 bởi cựu nhân sự Gas Discharge Plasma Laboratory (ĐH Tsinghua), trình diễn nguyên mẫu nguồn sáng EUV FlintNano LPP-OXXO tại China International Industry Fair ở Thượng Hải.
• Công ty công bố nguồn dùng công nghệ laser-produced plasma (LPP) với laser điều khiển 1.000W, tần số hoạt động 1 kHz–20 kHz và hiệu suất chuyển đổi vượt 2%.
• Langdao cho biết đầu ra EUV vượt 15W và độ sáng đạt 100 W/(mm²·sr), với étendue 1×10⁻³ mm²·sr và đường kính plasma 60 μm.
• Hãng báo cáo vận hành liên tục trên 100 giờ, độ ổn định plasma 3% RMS và độ ổn định công suất EUV 5%, phù hợp cho thí nghiệm phơi sáng bán dẫn.
• Tom's Hardware lưu ý Langdao chưa bật nguồn công khai khi trình diễn và không có hệ thống thu EUV hoàn chỉnh được trình bày.
• TrendForce trích nguồn cho biết công ty cần thêm khoảng ba đến năm năm để thương mại hóa công nghệ này.
• Bài viết nhắc rằng một nguồn sáng đơn lẻ không tạo thành máy quét EUV hoàn chỉnh, và đầu ra hiện vẫn chưa đủ cho sản xuất hàng loạt chip.
• So sánh lịch sử: các nguồn EUV ban đầu của ASML/Cymer từng ghi 10–11W tại intermediate focus (2007–2012) và tiến tới ~40W vào 2013; Gigaphoton báo 25–118W trong các mốc 2013–2014, nhưng các phép đo khác nhau khó so sánh trực tiếp.
• Tom's Hardware cảnh báo Langdao dường như đo công suất EUV tại plasma thay vì tại collector hoặc intermediate focus như ASML, là yếu tố làm hạn chế so sánh trực tiếp.
• Langdao cũng phát triển FlintMicro-LPP công suất cao đã hoàn thành xác nhận nguyên lý, nhưng chưa công bố công suất, hiệu suất chuyển đổi hay tuổi thọ vận hành.

Tóm tắt tự động bằng AI từ bài gốc, có thể có sai sót. Hãy kiểm chứng ở bài gốc.